Le CEA est un acteur majeur de la recherche, au service des citoyens, de l'économie et de l'Etat.
Il apporte des solutions concrètes à leurs besoins dans quatre domaines principaux : transition énergétique, transition numérique, technologies pour la médecine du futur, défense et sécurité sur un socle de recherche fondamentale. Le CEA s'engage depuis plus de 75 ans au service de la souveraineté scientifique, technologique et industrielle de la France et de l'Europe pour un présent et un avenir mieux maîtrisés et plus sûrs.
Implanté au cœur des territoires équipés de très grandes infrastructures de recherche, le CEA dispose d'un large éventail de partenaires académiques et industriels en France, en Europe et à l'international.
Les 20 000 collaboratrices et collaborateurs du CEA partagent trois valeurs fondamentales :
- La conscience des responsabilités
- La coopération
- La curiosité
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A Grenoble, au centre des Alpes, le CEA-Leti est un institut de recherche appliquée en micro et nanotechnologies, technologies de l'information et de la santé. Interface privilégiée du monde industriel et de la recherche académique, il assure chaque année le développement et le transfert de technologies innovantes dans des secteurs variés via des programmes de recherche utilisant nos plateformes technologiques.
Le CEA-Leti est ainsi actif dans l'ensemble des applications de la microélectronique destinées aux futures générations de composants : CMOS avancés, mémoires, RF, intégration 3D, photonique, électronique de puissance… Dans ces composants, les performances peuvent être directement limitées par les propriétés des matériaux diélectriques, et la réduction continue des dimensions impose des contraintes croissantes : remplissage de structures confinées présentant des aspect ratio de plus en plus agressifs, budget thermique contraint, ou exigences accrues en termes de fiabilité électrique.
Pour répondre à ces défis, nous disposons d'un large parc d'équipement de dépôt de dernière génération, incluant des procédés de dépôt plasma originaux (PECVD, plasma downstream, plasma pulsés, PEALD). Les développements adressent l'ensemble de la filière d'intégration : FEOL, MEOL et BEOL. Les matériaux déposés sont les diélectriques classiques de la microélectronique (SiO2, SiN) ainsi que des matériaux organosiliciés dont la composition et les propriétés diélectriques peuvent être ajustées en fonction des conditions de dépôt.
